|
1
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| Electron Beam Lithography System | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 此電子束微影設備為日商Elionix設備，具有最大50 kV加速電壓之ZrO/W電子槍，屬於Gaussian beam之電子束微影系統，能長時間提供穩定的超細電子束(最小直徑2 nm)，並搭載優異之X、Y、Z雷射定位機制，能提供0.6 nm高精準度的定位，並配備不同尺寸之載台，最大可曝寫於6 inch基板上，最小為1cm*1cm基板。其主要係利用電子束聚焦直寫的方式，直接將CAD所設計之圖案直寫於光阻上，不須等待光罩的製作，可於相容的阻劑上產生次微米至奈米等級的精細圖案，能克服一般光學微影的繞射極限問題，提供一個高解析度的製作，後續亦可搭配鍍膜或蝕刻製程等，製作出各式奈米結構。 在學術研究領域上，可以依據不同研究需求，快速製作出各式各樣之半導體元件、光學元件、光子晶體、奈米壓印模板等，在產業上之應用領域，可省卻光罩製作成本，對於初期研發案，可快速達到測試階段目標。 |
|
Instrument Chinese Name
|
【SEMI004300】電子束微影系統
|
【SEMI004300】電子束微影系統
|
|
Instrument English Name
|
Electron Beam Lithography System
|
|
Instrument Category
|
Semiconductor
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):99
Number of Reservations(external):99
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
| | | | | | | | | | | |
| Basic | 113 | EBW_OEM |
| EBW_OEM | 2,430 | 10,000 | 0 | 0 | No discount |
| 樣本須為導電基板，製作圖案之線寬/間距/直徑需大於100nm，如為非導電基板或製作尺寸小於或等於100nm，必需選擇Ultra_OEM之項目 |
| Basic | 113 | EBW_Self-operation |
| EBW_Self-operation | 0 | 0 | 1,760 | 7,000 | No discount |
| |
| Basic | 113 | EBW_Training |
| EBW_Training | 16,000 | 64,000 | 0 | 0 | No discount |
| 課程1件的單價代表上完整一套課程並取得機台權限之費用 |
| Basic | 113 | EBW_Qualify |
| EBW_Qualify | 5,040 | 20,000 | 0 | 0 | No discount |
| 如已報名教育訓練課程無需報名此項，此項僅為權限過期，進行重新認證用 |
| Basic | 113 | SEM_OEM |
| SEM_OEM | 1,980 | 8,000 | 0 | 0 | No discount |
| 此項目僅供簡易SEM之Top view拍攝。
注意事項：真空中具揮發性或在電子束照射下易分解、會釋出氣體分子的樣品，如有機物、粉末材料、磁性物質等，因有礙真空維持或可能污染腔體，嚴禁放入腔體中。 |
| Basic | 113 | Ultra_OEM |
| Ultra_OEM | 3,780 | 12,000 | 0 | 0 | No discount |
| 製作樣本為非導電或半導電之基板，或製作圖案之線寬/間距/直徑小於等於100nm者，需申請此項，不得選用EBW_OEM之項目 |
| Basic | 113 | Ultra_Traing |
| Ultra_Traing | 16,000 | 64,000 | 0 | 0 | No discount |
| 此項目為進階課程，必須通過EBW_教育訓練課程，且EBW_自行操作時數達30小時以上者，方可選此課程。此課程為二次對準程序及鄰近效應修正系統。 |
| Basic | 113 | Ultra_Qualify |
| Ultra_Qualify | 5,040 | 20,000 | 0 | 0 | No discount |
| 此項目為進階課程項目權限過期。重新認證專用。 |
| Basic | 113 | Proximity effect correction software_self operation |
| Proximity effect correction software_self operation | 0 | 0 | 600 | 3,000 | No discount |
| |
| Basic | 113 | Proximity effect correction software_OEM |
| Proximity effect correction software_OEM | 2,430 | 10,000 | 0 | 0 | No discount |
| |
 | Loading… |
|
|
|
|
2
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| TRANSIENT ABSORPTION SPECTROMETER | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 瞬態吸收光譜(Transient Absorption Spectrometer，TAS)技術利用Pump-probe技術量測材料內部的載子時間動力學。利用高頻率的脈衝雷射激發(Pump)樣品產生瞬態，例如電子激發態、電荷轉移反應中間體或是自由基活化等，藉由探測(Probe)光源在不同波長的吸收與延遲時間(Delay time)，記錄其能量弛豫回到基態的過程。
◆ 時間模式：利用單一的偵測器來量測特定單一波長下的瞬態吸收動力學，進一步掃描不同的波長，在不同的時間點取出特定的光譜變化。
◆ 光譜模式：利用感光耦合元件(Charge-coupled Device，CCD)偵測器去量測單一雷射脈衝下的全波長吸收光譜。
電荷轉移與能量弛豫現象為許多物理與化學反應的主要機制，舉凡太陽能電池、發光元件、界面催化、光合作用、準粒子的形成等，均倚賴電荷或能量轉移來完成。瞬態吸收光譜可分析材料內部與介面的電荷轉移與能量弛豫的行為並探索其機制，是研究各類型光電元件中載子動力學上的重要技術。 |
|
Instrument Chinese Name
|
【OTHER003700】瞬態吸收光譜儀
|
【OTHER003700】瞬態吸收光譜儀
|
|
Instrument English Name
|
TRANSIENT ABSORPTION SPECTROMETER
|
|
Instrument Category
|
Other
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):50
Number of Reservations(external):50
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
|
|
|
3
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) | Core Facility Center, National Cheng Kung University | XPS：光源為掃描式Al Kα單光化X 光，表面鍵結成分分析
AES：Auger Electron Spectrometer，歐傑電子光譜
UPS：Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy (紫外光電子能譜)，
LEIPS：Low Energy Inverse Photoelectron Spectroscopy (低能量反光電子能譜)，
Argon Ion Gun，可用於清潔樣品表面和縱深分析。
Gas Cluster Ion Gun(GCIB，Ar2500+)，用於有機物縱深分析。
樣品升降溫載台：樣品可在真空分析室內進行升降溫實驗，溫度範圍 -140°C 到 +600°C。
電荷中和系統：中和樣品表面的電荷累積。
Transfer Vessel: 可於手套箱內將空氣敏感不穩定的樣品密封，觀察樣品的真實狀態。 |
|
Instrument Chinese Name
|
【ESCA003700】X光光電子能譜儀-XPS
|
【ESCA003700】X光光電子能譜儀-XPS
|
|
Instrument English Name
|
X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS)
|
|
Instrument Category
|
Electron spectrometer
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):59
Number of Reservations(external):17
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
| | | | | | | | | | | |
| Basic | 113 | survey scan |
| survey scan | 350 | 3,500 | 350 | 3,500 | No discount |
| 以40分鐘/件 |
| Basic | 113 | UPS |
| UPS | 350 | 3,500 | 350 | 3,500 | No discount |
| 以40分鐘/件 |
| Basic | 113 | overtime charge |
| overtime charge | 150 | 1,500 | 150 | 1,500 | No discount |
| |
| Basic | 113 | depth profile (Ar) |
| depth profile (Ar) | 650 | 6,500 | 650 | 6,500 | No discount |
| |
| Basic | 113 | LEIPS |
| LEIPS | 650 | 6,500 | 650 | 6,500 | No discount |
| |
| Basic | 113 | AES scan |
| AES scan | 350 | 3,500 | 350 | 3,500 | No discount |
| 以40分鐘/件 |
| Basic | 113 | depth profile (GCIB) |
| depth profile (GCIB) | 650 | 6,500 | 650 | 6,500 | No discount |
| |
| Loading… |
|
|
|
|
4
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| 600MHz NMR | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 600MHz NMR廠牌為BRUKER ，目前搭配的室溫BBFO探頭，超導核磁共振儀是研究自旋角動量不為零的原子核所具有的磁矩，分子置於外加靜磁場下與電磁波脈衝產生磁作用時的熱力學與動力學行為，進而對分子進行分析、鑑定及結構上的研究。應用於化學結構鑑定、化學成分分析、熱力學及動力學探討等。 主要檢測的項目包含一維氫譜、一維異核圖譜、二維實驗等。 使用的軟體為TOPSPIN 3.5l版，可進行樣品檢測、作圖、圖譜輸出及數據分析等。
服務項目及收費標準：(廠牌型號:BRUKER AVANCE III HD 600MHz NMR)
1.本室有提供一般氘-溶劑(CDCl3,D2O,DMSO)及NMR 試管.
2.測試樣品量氫(5-10mg),碳及二維圖譜需(20-30mg).
(1)有計畫者氫譜每件250元(須加溶劑50元或試管100元),非計畫者氫譜每件1500元(須加溶劑200元或試管200元).
(2)有計畫者碳譜或異核圖譜每件600元,非計畫者每件2500元.
(3)有計畫者二維圖譜每件2000元,非計畫者每件3000元.
(4)有計畫者長時間實驗每小時150元,非計畫者每小時600元.
(5)有計畫者教育訓練每小時1100元,非計畫者每小時2200元.
|
|
Instrument Chinese Name
|
【NMR001900】600MHz 核磁共振儀
|
【NMR001900】600MHz 核磁共振儀
|
|
Instrument English Name
|
600MHz NMR
|
|
Instrument Category
|
Nuclear Magnetic Resonance Spectrometer
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):998
Number of Reservations(external):1000
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
|
|
|
5
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| Advanced focused ion beam system | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 廠牌/型號: FEI Helios G3CX
服務項目: 1.超高解析定點縱剖面切割 2.特殊圖形製作 3.選擇性的Pt / C 表面蒸鍍 4. TEM試片製備 5.元素成份分析
|
|
Instrument Chinese Name
|
【EM025200】前瞻聚焦離子束系統
|
【EM025200】前瞻聚焦離子束系統
|
|
Instrument English Name
|
Advanced focused ion beam system
|
|
Instrument Category
|
Electron Microscope
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
|
|
|
6
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| Advanced focused ion beam system_self operated | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 廠牌/型號: FEI Helios G3CX
服務項目: 1.超高解析定點縱剖面切割 2.特殊圖形製作 3.選擇性的Pt / C 表面蒸鍍 4. TEM試片製備 5.元素成份分析
收費標準: TEM試片製備 NT$3600 /片; 其他: NT$6000 ~ 7000/小時
|
|
Instrument Chinese Name
|
【EM025202】前瞻聚焦離子束系統_自行操作
|
【EM025202】前瞻聚焦離子束系統_自行操作
|
|
Instrument English Name
|
Advanced focused ion beam system_self operated
|
|
Instrument Category
|
Electron Microscope
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):27
Number of Reservations(external):30
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
|
|
|
7
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| Analytical Field Emission Scanning Electron Microscope | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 一、廠牌型號：ZEISS AURIGA.
二、服務項目：影像觀察(SEI、BEI)及能量分散光譜儀(EDS、linescan、mapping).
三、收費標準：1.SEM 1小時收費現金400元.
2.EDS元素分析每次收費現金100元.
3.試片鍍金每次現金100元. |
|
Instrument Chinese Name
|
【EM000600】分析型場發掃描式電子顯微鏡
|
【EM000600】分析型場發掃描式電子顯微鏡
|
|
Instrument English Name
|
Analytical Field Emission Scanning Electron Microscope
|
|
Instrument Category
|
Electron Microscope
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
|
|
|
8
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| AVANCE NEO 500 solution-NMR | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 超導核磁共振儀 AVANCE NEO 500 MHz
廠牌型號 : Bruker
服務項目 :
1. 一維H 核光譜：H 光譜,同核解偶光譜,選擇性NOE光譜,water suppression,等
2. 一維異核光譜：13C,19F,31P,29Si,2D,6Li,71Ga,17O,15N,27Al ,光譜定量,DEPT 光譜等
3. 二維同核光譜：COSY,NOESY,ROESY,TOCSY,INADQUATE, 等
4. 二維異核光譜：HMQC,HSQC,HMBC 等
5. 擴散實驗：Diffusion, DOSY
|
|
Instrument Chinese Name
|
【NMR005000】超導核磁共振儀 500NMR
|
【NMR005000】超導核磁共振儀 500NMR
|
|
Instrument English Name
|
AVANCE NEO 500 solution-NMR
|
|
Instrument Category
|
Nuclear Magnetic Resonance Spectrometer
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):1000
Number of Reservations(external):999
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
|
|
|
9
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| Bruker Avance III HD Solid State NMR | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 廠牌及型號：德國 BRUKER AVANCE III HD
‧重要規格：9.4 Tesla 超導磁場
‧主要附件：
‧CPMAS probe 7mm rotor 15N ~ 31P
‧CPMAS probe 4mm rotor 15N ~ 31P
‧Wide line probe 109Ag ~ 31P
‧Ultra Low temperature probe 63Cu，29Si，79Ga
‧VT unit BVT 3000
‧VT unit ITC 503
收費表準:計畫付費每小時150元，非計畫付費每小時1500元 |
|
Instrument Chinese Name
|
【NMR000800】固態核磁共振光譜儀
|
【NMR000800】固態核磁共振光譜儀
|
|
Instrument English Name
|
Bruker Avance III HD Solid State NMR
|
|
Instrument Category
|
Nuclear Magnetic Resonance Spectrometer
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):50
Number of Reservations(external):50
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
|
|
|
10
|
國立成功大學核心設施中心
Core Facility Center, National Cheng Kung University
| CE/LC-MS; High Resolution Orbitrap Mass Spectrometry Coupled with Liquid Chromatography/Microchip Electrophoresis | Core Facility Center, National Cheng Kung University | 一、廠牌及型號：Q-Exactive Plus (Thermo Fisher Scientific)高解析度軌道阱質譜儀、nano-UHPLC System超高壓液相層析系統。
二、服務項目:
（一）分析項目：
1. 分子量測定
2. UHPLC-HRMS/MS分析（小分子、代謝體）（25分鐘）
3. nano-UHPLC-HRMS/MS分析（蛋白體）（80分鐘）
（二）其它：
1. 資料庫搜尋（定性）
2. ZipTip 去鹽 (限胜肽樣本)
|
|
Instrument Chinese Name
|
【MS004000】高解析Orbitrap質譜儀串聯液相層析暨晶片電泳分析系統
|
【MS004000】高解析Orbitrap質譜儀串聯液相層析暨晶片電泳分析系統
|
|
Instrument English Name
|
CE/LC-MS; High Resolution Orbitrap Mass Spectrometry Coupled with Liquid Chromatography/Microchip Electrophoresis
|
|
Instrument Category
|
Mass Spectrometer
|
|
Instrument Status
|
服務(On Service)
|
Number of Reservations
(within a month)
|
Number of Reservations(Internal):23
Number of Reservations(external):23
|
|
|
|
|
|
Billing Trial Calculation
|
| | | | | | | | | | | |
| Basic | 113 | Molecular weight determination (Loop, above 10 injection) |
| Molecular weight determination (Loop, above 10 injection) | 350 | 1,400 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 113 | Training Course |
| Training Course | 400 | 1,000 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 113 | Molecular weight determination (Loop, 1-9 injection) |
| Molecular weight determination (Loop, 1-9 injection) | 500 | 2,000 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 113 | RPLC-MS/MS analysis (1-9 injection) |
| RPLC-MS/MS analysis (1-9 injection) | 800 | 3,200 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 113 | RPLC-MS/MS analysis (above 10 injection) |
| RPLC-MS/MS analysis (above 10 injection) | 600 | 2,400 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 113 | nanoLC-MS/MS analysis (Proteomics, 1-9 injection) |
| nanoLC-MS/MS analysis (Proteomics, 1-9 injection) | 1,500 | 4,500 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 113 | nanoLC-MS/MS analysis (Proteomics, above 10 injection) |
| nanoLC-MS/MS analysis (Proteomics, above 10 injection) | 1,100 | 3,300 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 113 | Mascot database search (NCKU analyzed data only, Qualitative) |
| Mascot database search (NCKU analyzed data only, Qualitative) | 300 | 900 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 113 | RPLC-MS/MS analysis (Daytime usage: 12 hrs) |
| RPLC-MS/MS analysis (Daytime usage: 12 hrs) | 0 | 0 | 6,500 | 26,000 | No discount |
| 1限通過認證之自行操作人員預約，請先來信與技術員聯繫使用時段。
2使用時段為週一到週五早上八點至晚上八點，時數限單次使用。 |
| Basic | 113 | nanoLC-MS/MS analysis (Daytime usage:12 hrs) |
| nanoLC-MS/MS analysis (Daytime usage:12 hrs) | 0 | 0 | 7,500 | 30,000 | No discount |
| 1限通過認證之自行操作人員預約，請先來信與技術員聯繫使用時段。
2使用時段為週一到週五早上八點至晚上八點，時數限單次使用。
|
| Basic | 113 | RPLC-MS/MS analysis (Night/Weekend usage: 12 hrs) |
| RPLC-MS/MS analysis (Night/Weekend usage: 12 hrs) | 0 | 0 | 4,500 | 18,000 | No discount |
| 1限通過認證之自行操作人員預約，請先來信與技術員聯繫使用時段。
2使用時段為周一到週日 晚上八點至隔天早上八點；週六週日 早上八點至晚上八點，時數限單次使用。 |
| Basic | 113 | nanoLC-MS/MS analysis (Night/Weekend usage:12 hrs) |
| nanoLC-MS/MS analysis (Night/Weekend usage:12 hrs) | 0 | 0 | 5,500 | 22,000 | No discount |
| 1限通過認證之自行操作人員預約，請先來信與技術員聯繫使用時段。
2使用時段為週一到週日晚上八點至隔天早上八點；週六週日 早上八點至晚上八點，時數限單次使用。
|
| Loading… |
|
|
|