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1
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| Atomic Force Microscope | NTUST Precious Instrumentation Center | 1.廠牌及型號：Bruker Dimension ICON
2.規格:
(1) 影像掃描解析度:1 nm
(2) 掃描範圍:90 × 90 × 10 μm
(3) 樣品載台(具有真空吸盤):最大直徑210 mm，厚度15 mm
(4) 抗震外殼: 主機外殼含氣浮式隔音防震平台，具有隔音、減震功能，能有效降低量測時所發生之雜訊
(5) 服務項目: 表面形貌及相圖(TappingMode、ScanAsyst Mode、Contact Mode)、磁力顯微術(MFM Mode)、靜電力顯微術(EFM Mode)、表面電位(KPM Mode)、導電顯
微術 (C-AFM Mode)
3.★★★首次量測請填寫委託評估表(下載位置https://reurl.cc/jDxOzD)，並寄至技術員信箱，待確認樣品量測可行性後，再預約時段 |
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Instrument Chinese Name
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【OTHER003500】多功能原子力顯微鏡
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【OTHER003500】多功能原子力顯微鏡
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Instrument English Name
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Atomic Force Microscope
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Instrument Category
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Other
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Instrument Status
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暫停服務(Service Paused)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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| Basic | 115 | Advanced Basic Fee |
| Advanced Basic Fee | 600 | 1,200 | 300 | 0 | No discount |
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| Basic | 115 | Standard Basic Fee |
| Standard Basic Fee | 500 | 1,100 | 200 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 115 | Surface Topography |
| Surface Topography | 300 | 1,400 | 300 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 115 | Mechanical,electrical and magnetic property |
| Mechanical,electrical and magnetic property | 400 | 1,400 | 400 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 115 | Standard Probe |
| Standard Probe | 1,200 | 1,200 | 1,200 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 115 | Electrical and Magnetic Probe |
| Electrical and Magnetic Probe | 1,500 | 1,500 | 1,500 | 0 | No discount |
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| Basic | 115 | CD disc |
| CD disc | 10 | 10 | 10 | 0 | No discount |
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 | Loading… |
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2
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| Field Emission Gun Transmission Electron Microscope | NTUST Precious Instrumentation Center | ●儀器設備說明:
規格:
(1)加速電壓: 200 KV、
(2)TEM分辨率:高解析影像條件 A. Point Resolution：≦0.23nm (200 kV), B. Lattice Resolution：≦0.1nm,成份與結構分析條件 3 nm、
(3) 能量分散光譜儀 (EDS):
(i)機型: EDAX ,
(ii)元素偵測範圍: B ~ U (原子序 5~92),
(iii)解析度: 133 eV、
(4) 双傾斜試片座的最大傾斜角度: α±30˚、β±20˚ 。
●服務項目：
針對不同類型的材料，提供高解析度的影像觀察及微區繞射分析。此外，也可進行樣品成分分析。
˙微結構觀察: 明視野、暗視野影像分析；高解析影像分析。
˙電子繞射分析。
˙元素定點定性及半定量成分分析。
˙EDS搭配STEM的HAADF偵測器同步獲取影像和光譜訊號可進行光譜元素全畫面(full frame)、選區(selected area)和線掃描(line scan)等掃描分析模式；本機台目前此分析功能，偶會受環境因素影響，使電子束不穩而有無法正常分析的情形，因非屬常態，故本情形僅提供擬預約使用時之參考，仍需視使用當日電子束穩定情況而定。
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Instrument Chinese Name
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【EM0000017504】場發射槍穿透式電子顯微鏡(200KV：附能量散布分析儀）
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【EM0000017504】場發射槍穿透式電子顯微鏡(200KV：附能量散布分析儀）
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Instrument English Name
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Field Emission Gun Transmission Electron Microscope
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Instrument Category
|
Electron Microscope
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Instrument Status
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服務(On Service)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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3
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| Field Emission scanning/ transmission electron microscope | NTUST Precious Instrumentation Center | 儀器設備說明:
˙規格:
(1)加速電壓: 200 KV
(2)TEM分辨率:0.12nm
(3)STEM HAADF分辨率: 0.16 nm
(4)Super-X EDS 系統: 對稱設計的4個SDD，無窗式
(5)快速 EDS 收集成像: 像素停留時間10 µs
(6)EDX 立体角: 0.9 srad
(7)camara length: 12–5700 mm
(8)双傾斜試片座的最大傾斜角度: ±30˚
(9)STEM Detector:BF、DF2、DF4、HAADF
服務項目：
針對不同類型的材料，提供高解析度的影像觀察及微區繞射分析。此外，也可進行樣品不同維度的影像及成分分析，並獲得樣品升溫反應資訊。
˙微結構觀察: 明視野、暗視野影像分析；高解析影像分析。
˙電子繞射分析。
˙不同維度之EDS定性及半定量成分分析。
˙EDS搭配STEM的BF, DF2, DF4, HAADF偵測器同步獲取影像和光譜訊號可進行光譜原素全畫面(full frame)、選區(selected area)和線掃描(line scan)等掃描分析模式。
˙NBD strain分析。
˙3D電子束體層攝影術影像及成分分析(S/TEM and EDS)。
˙樣品升溫反應資訊。
˙數據皆採數位電子影像系統存取，委託者請攜帶DVD光碟片存取檔案，一律禁用隨身碟。
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Instrument Chinese Name
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【EM011800】場發射掃描/穿透式電子顯微鏡
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【EM011800】場發射掃描/穿透式電子顯微鏡
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Instrument English Name
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Field Emission scanning/ transmission electron microscope
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Instrument Category
|
Electron Microscope
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Instrument Status
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服務(On Service)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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| | | | | | | | | | | |
| Basic | 115 | Operated by the qualified operators |
| Operated by the qualified operators | 1,500 | 1,500 | 0 | 0 | No discount |
| 每一時段以3小時計，未滿者亦以一時段計費。
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| Basic | 115 | Operated by the users his / her own |
| Operated by the users his / her own | 1,200 | 1,200 | 1,200 | 1,200 | No discount |
| 每一時段以3小時計，未滿者亦以一時段計費。
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| Basic | 115 | CCD image |
| CCD image | 20 | 20 | 20 | 20 | No discount |
| 數據皆採數位電子影像系統存取，委託者請攜帶DVD光碟片存取檔案，一律禁用USB隨身碟。 |
| Basic | 115 | EDS |
| EDS | 20 | 20 | 20 | 20 | No discount |
| 全能譜定性、半定量分析 |
| Basic | 115 | EDS Mapping |
| EDS Mapping | 400 | 400 | 400 | 400 | No discount |
| 此數據範圍內，可另外存取line scan分析數據。 |
| Basic | 115 | Additional sample |
| Additional sample | 200 | 200 | 200 | 200 | No discount |
| 1時段以放置1個樣品為基本，若需更換樣品，每件增加收費200元。 |
| Basic | 115 | Digital Versatile Disc |
| Digital Versatile Disc | 10 | 10 | 10 | 10 | No discount |
| 數據皆採數位電子影像系統存取，委託者請攜帶DVD光碟片存取檔案，一律禁用隨身碟。 |
| Basic | 115 | Overtime (Operated by the qualified operators) |
| Overtime (Operated by the qualified operators) | 500 | 500 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 115 | Overtime (Operated by the users his / her own) |
| Overtime (Operated by the users his / her own) | 400 | 400 | 400 | 400 | No discount |
| |
| Basic | 115 | NBD |
| NBD | 10,000 | 10,000 | 0 | 0 | No discount |
| |
| Basic | 115 | MEMS device |
| MEMS device | 6,000 | 6,000 | 6,000 | 6,000 | No discount |
| 特殊樣品加熱分析實驗 |
| Loading… |
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4
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| 6500F Field Emission Scanning Electron Microscope | NTUST Precious Instrumentation Center | 1.解析度(SEI):高解析影像條件1.5nm(15KV)
2.能量分散光譜儀(EDS oxford)：元素偵測範圍:B~U(原子序5~92)，解析度:133eV
3.SEI及EDS試片尺寸:直徑25mm,高度5mm
4.週一.周二.週四.周五.上午9:00~12:00以及下午14:00~17:00各一個時段；排定時段欲取消須於5日前通知，排定時段30分鐘內未到者，逕予以取消並扣基本費900元
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Instrument Chinese Name
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【EM0000007900】6500F高解析度場發射掃描式電子顯微鏡
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【EM0000007900】6500F高解析度場發射掃描式電子顯微鏡
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Instrument English Name
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6500F Field Emission Scanning Electron Microscope
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Instrument Category
|
Electron Microscope
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Instrument Status
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服務(On Service)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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5
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| 7900F Field Emission Scanning Electron Microscope | NTUST Precious Instrumentation Center | 1.高解析度場發射掃描式電子顯微鏡(FE SEM)
解析度(SEI):高解析影像條件1.5nm(15KV)
放大倍率:10x~1000,000x 影像輸出:燒錄數位影像紀錄
2.能量分散光譜儀(EDS)
元素偵測範圍:Be~U(原子序4~92)
解析度:133eV
3.電子背向散射繞射儀(EBSP)
軟體功能:a.結晶方位分析(依據菊池線分析) b.微區晶相圖像
c.晶軸及反晶軸圖像
貳.試片要求
1.SEI及EDS試片尺寸:直徑25mm,高度20mm
2.EBSP試片尺寸:直徑10mm,高度10mm
參.開放時段
週一.周二.週四上午9:00~12:00以及下午14:00~17:00各一個時段；排定時段欲取消須於3日前通知，排定時段30分鐘內未到者，逕予以取消並扣基本費900元。 |
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Instrument Chinese Name
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【EM011900】7900F 高解析度場發射掃描式電子顯微鏡
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【EM011900】7900F 高解析度場發射掃描式電子顯微鏡
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Instrument English Name
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7900F Field Emission Scanning Electron Microscope
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Instrument Category
|
Electron Microscope
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Instrument Status
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服務(On Service)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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6
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| Field Emission Gun Transmission Electron Microscopy | NTUST Precious Instrumentation Center | 儀器設備說明：
規格：
(1)加速電壓： 200 KV
(2)TEM分辨率：
高解析影像條件 A. Point Resolution：≦0.23nm (200 kV)
B. Lattice Resolution：≦0.1nm
成份與結構分析條件 3 nm
(3) 能量分散光譜儀 (EDS)：
(i)機型: EDAX
(ii)元素偵測範圍: B ~ U (原子序 5~92)
(iii)解析度: 133 eV
(4) 雙傾斜試片座的最大傾斜角度：α±30˚、β±20˚
服務項目：
針對不同類型材料，提供高解析度的影像觀察及微區繞射分析，也可進行樣品成分分析。
●微結構觀察: 明視野、暗視野影像分析；高解析影像分析。
●電子繞射分析。
●元素定點定性及半定量成分分析。
●EDS搭配STEM的HAADF偵測器同步獲取影像和光譜訊號可進行光譜元素全畫面(full frame)、選區(selected area)和線掃描(line scan)等掃描分析模式；本機台目前此分析功能，偶會受環境因素影響，使電子束不穩而有無法正常分析的情形，因非屬常態，故本情形僅提供擬預約使用時之參考，仍須視使用當日電子束穩定情況而定。 |
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Instrument Chinese Name
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【EM0000017500】場發射穿透式電子顯微鏡
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【EM0000017500】場發射穿透式電子顯微鏡
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Instrument English Name
|
Field Emission Gun Transmission Electron Microscopy
|
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Instrument Category
|
Electron Microscope
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Instrument Status
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服務(On Service)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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7
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| Field Emission Scanning Electron Microscope | NTUST Precious Instrumentation Center | 解析度（HL）：高解析影像條件 0.7nm（20kV ）；放大倍率：10x~2000,000x ；影像輸出：燒錄數位影像紀錄（請自備光碟片） ；能量分散光譜儀（EDS）元素偵測範圍：Be~U（原子序4~92） 解析度：133eV。
每個時段(3小時)計畫委託收費為2000元；非計畫委託收費為5000元。
1. 樣品面積：目前可以拍攝的方式有 Top-view, Tilt-view, Cross-section view 。
Top-view 試片可拍攝面積需小於約3cm直徑的面積 。
Tilt-view, Cross-section view 試片需站立，其高度不可超過 0.5cm。
2.為避免對超高真空造成污染，樣品不得為揮發性物質、有機物質、有毒物質、磁性物質、未固化之粉末試樣。樣品保持清潔及乾燥，油汙及腐蝕液須清洗乾淨並烘乾。若發現使用未許可樣品，停權一個月處分。
3.樣品必須是塊(餅)狀，如為粉末材料應先壓成塊（餅）狀，再蒸鍍一層覆膜或經其他特殊處理，如為鑲埋物限用熱鑲埋。
4. 目前本儀器提供鍍白金服務，以提供導電性差之試片分析。
5. 使用者第一次預約實驗請與儀器管理員討論樣品處理事宜。
技術員：鄭郁璇 ； 聯絡電話：02-2737-6632；E-mail：yuhsuan1998@gmail.com |
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Instrument Chinese Name
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【EM026400】高解析熱電子型場發射掃描式電子顯微鏡
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【EM026400】高解析熱電子型場發射掃描式電子顯微鏡
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Instrument English Name
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Field Emission Scanning Electron Microscope
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Instrument Category
|
Electron Microscope
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Instrument Status
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服務(On Service)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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8
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| Hysitron TI 980 TriboIndenter | NTUST Precious Instrumentation Center | ****************************************************************************************************************************************************************************************************************
【重要訊息】
1.★★★預約前務必先詳讀樣品條件要求，並最晚於「預約日之一周前」，提供委測資訊表(https://reurl.cc/4LAlGv)至技術員信箱進行量測評估。
2.有關樣品條件要求，請至儀器網頁詳閱。
3.樣品製備不符合規定或對儀器設備有危害風險，或逾期未提交委測資訊表，無條件取消或終止委測
****************************************************************************************************************************************************************************************************************
一、設備功能
(校內、外及產業單位擬委託第4、5、6之量測項目，請須先來電討論評估後再預約)
1.奈米壓痕、硬度(Hardness)、簡化模數(Reduced Modulus)、壓痕殘餘深度、力相關曲線圖
2.2D和3D表面形貌掃描圖(SPM)、表面粗糙度(Roughness)
3.奈米刮痕、摩擦係數、薄膜附著力、刮痕殘餘深度、力相關曲線圖
4.磨耗測試(Wear，單道直線反覆式刮痕)、磨耗深度
5.奈米動態機械性質分析(Nano DMA)
6.快速打點(XPM，100點/組，不足100點以1組計費)
二、設備規格
大荷重模組
1.壓痕：加載方式:縱向加載；偵測數據:縱向力量和位移；最大力量＞10 N(縱向)；最大位移≥80 μm；位置控制精度:±1μm。
2.刮痕：加載方式:縱向加載；偵測數據:橫縱向力量和位移；最大力量:5 N(橫向)；最大位移150 mm；位置控制精度:±1μm。
小荷重模組
1.壓痕：加載方式:縱向加載；偵測數據:縱向力量和位移；最大力量＜10 mN (縱向)；最大位移≥5 μm；位置控制精度:±5nm；原位掃描範圍:1 X 1μm~75 X 75μm；動態力學頻率:0.1H~300Hz；最大動態振幅力:5mN；最大動態振幅:2.5μm。
2.刮痕：加載方式:縱向加載；偵測數據:橫縱向力量和位移；最大力量:2 mN(橫向)；最大位移15μm；位置控制精度:±5nm；原位掃描範圍:1 X 1μm~75 X 75μm。
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Instrument Chinese Name
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【OTHER001900】奈米壓痕材料機械性質分析儀
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【OTHER001900】奈米壓痕材料機械性質分析儀
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Instrument English Name
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Hysitron TI 980 TriboIndenter
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Instrument Category
|
Other
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Instrument Status
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暫停服務(Service Paused)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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9
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| Multifunctional X-ray Diffractometer | NTUST Precious Instrumentation Center | ****************************************************************************************************************************************************************************************************************
【重要訊息】
1.★★★原本台科大桌上型 第一代和第二代 D2XRD儀器，已自國科會系統下架。若有委測需求，請下載瞭解預約說明( https://reurl.cc/AMk9kK )。★★★★★
2.國科會系統服務為多功能X光繞射儀(D8機型)，預約請至儀器網頁詳閱「申請服務方式」和「樣品條件要求」，並最晚於「預約日之一周前」，提供委測資訊表(https://reurl.cc/L5DyXL)至技術員信箱進行量測評估。
3.樣品製備不符合規定或對儀器設備有危害風險，或逾期未提交委測資訊表，無條件取消或終止委測
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1. 中文名稱：多功能X光繞射儀
2. 英文名稱：Multifunctional X-ray Diffractometer
3. 廠牌及型號：Bruker D8 Advance Plus
4. 規格
(1) X光源：Cu靶
(2) 最大功率：3kW
(3) 測量幾何：直立式測角儀 Theta/Theta
(4) 2θ掃描範圍：0.15° 至 150°
(5) 最小步幅：0.0001°
(6) 入射光源模組：自動發散狹縫、Göbel反射鏡、Ge(004)單光器
(7) 繞射光源模組：自動防散射狹縫、0.2° Soller準直器、自動強度衰減器
(8) 化合物半導體偵測器：LYNXEYE XE-T，能量解析小於 380eV
(9) 動態光束優化系統（DBO）：適用粉末繞射之極低2θ起始角度
(10) Compact Cradle Plus：提供Z/Chi/Phi三軸自由度
(11) TWIST-TUBE：快速點和線光源切換
5.功能項目 (備註：開放服務項目以實際公告為主)
(1)極低起始角廣角繞射分析(WXRD)、低掠角繞射分析(GID)、薄膜全反射分析(XRR)、搖擺曲線分析(Rocking Curve)、高解析繞射分析(HRXRD)
(2)殘留應力分析(Residual stress)、快速倒易空間(RSM) (**此兩項量測尚準備中)
(注意 : 以上量測僅提供圖譜數據，不提供鑑定或進階分析服務)
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Instrument Chinese Name
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【XRD005500】多功能 X 光繞射儀
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【XRD005500】多功能 X 光繞射儀
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Instrument English Name
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Multifunctional X-ray Diffractometer
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Instrument Category
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X-Ray Diffractometer
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Instrument Status
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服務(On Service)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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| Basic | 115 | Base Fee |
| Base Fee | 400 | 2,000 | 200 | 1,000 | No discount |
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| Basic | 115 | Ultra-Low Angle X-ray Diffraction |
| Ultra-Low Angle X-ray Diffraction | 100 | 500 | 100 | 500 | No discount |
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| Basic | 115 | Grazing Incidence Diffraction |
| Grazing Incidence Diffraction | 200 | 1,000 | 200 | 1,000 | No discount |
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| Basic | 115 | Thin Film X-ray Reflectivity |
| Thin Film X-ray Reflectivity | 200 | 1,000 | 200 | 1,000 | No discount |
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| Basic | 115 | Rocking Curve |
| Rocking Curve | 300 | 1,500 | 300 | 1,500 | No discount |
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| Basic | 115 | Residual Stress |
| Residual Stress | 300 | 1,500 | 300 | 1,500 | No discount |
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| Basic | 115 | Rapid Reciprocal Space Mapping |
| Rapid Reciprocal Space Mapping | 300 | 1,500 | 300 | 1,500 | No discount |
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| Basic | 115 | High-Resolution X-ray Diffraction |
| High-Resolution X-ray Diffraction | 300 | 1,500 | 300 | 1,500 | No discount |
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國立臺灣科技大學貴重儀器共用計畫
NTUST Precious Instrumentation Center
| X-ray Photoelectron Spectrometer | NTUST Precious Instrumentation Center | 儀器中文名稱：X射線光電子能譜儀
儀器英文名稱：X-ray Photoelectron Spectroscopy
儀器英文簡稱：XPS
儀器購置時間：2021年10月
開放服務時間：2022年04月
放置地點：工程一館145實驗室 （E1-145 Lab）
廠牌型號： ULVAC-PHI. Inc. / PHI 5000 VersaProbe Ⅲ
規格:
1.X-ray光源：鋁Kα單光X光源系統（Al Kα monochromatic X-ray source system）
2.能量解析度：對Ag 3d5/2 峰，半高寬<0.5 eV
3.分析面積：10 μm（圓形）~ 1400 μm×1400 μm（矩形）
4.分析室最佳真空度≒6.7×10-8 Pa
5.歐傑電子槍：LaB6燈絲（0.2~10 kV），光束直徑≧100 nm
6.氬離子槍（Ar+ Ion gun）：能量調整範圍為 0.5 keV - 5 keV
7. C60離子槍（C60 Ion gun）：最大加速電壓為20 kV
8.雙射束源電荷補償系統：解析度在聚對苯二甲酸乙二酯中O=C-O C1s半高寬＜0.85 eV
服務項目：
A.X射線光電子能譜儀（X-ray photoelectron spectroscopy, XPS）：
可對物質表面進行定性及定量化學分析，獲得元素組成及化學態（chemical state）資訊，包括全能譜（survey spectrum）、單元素高解析譜（high-resolution spectrum）、元素線掃描、元素影像分析、縱深分析（depth profiling）及角解析分析（ARXPS）。
B.掃描式歐傑能譜（Auger electron spectroscopy, AES）：
可對材料表面進行高空間解析度之微區定性及定量元素分析，適用於表面元素分佈與組成研究；具備全譜分析、單元素分析、元素線掃描、元素影像分析及縱深分析等功能。
C.紫外光電子能譜（Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy, UPS）：
以紫外光照射樣品，使已佔據電子態之電子逸出，並量測其動能分佈，用於分析材料之已佔據電子結構（如 VB、EF），並可求得功函數（WF）。
D.低能量反光電子能譜（Low Energy Inverse Photoemission Spectroscopy, LEIPS）：
以低能電子填入樣品未佔據電子態，並量測其輻射光子訊號，用於分析材料之未佔據電子結構（如 CB、LUMO）。
整合分析能力：
UPS 量測已佔據電子態（VB），LEIPS 量測未佔據電子態（CB），兩者結合可完整解析材料之能帶結構，進一步求得能帶間隙（band gap）及電子親和力（EA）。
樣品製備要求：
1.樣品不得具有強磁性、揮發性、毒性及放射性。
2.樣品尺寸要求如下：
XPS、AES：面積小於 6 mm × 6 mm，高度不得超過 6 mm。
UPS、LEIPS：面積需介於 5 mm × 5 mm 至 6 mm × 6 mm。（建議樣品電阻值 < 60 Ω，或事先與操作人員確認）
3.粉末樣品請事先與操作人員聯繫（XPS試片可代製並酌收費用；UPS/LEIPS試片須自行製備）。
4.樣品須完成必要之前處理（如烘乾、除水、研磨等），以確保製備順利並避免預抽時間過長。
5.若無法於合理時間內達到預抽所需真空度（9.5 × 10⁻⁵ Pa），本次實驗將予以取消，並依實際操作時間收取費用。
6.樣品若不符合規範或具有損害儀器之風險，本中心得取消該次預約。
7.若因申請人樣品造成儀器污染或損壞，相關修復及賠償責任由申請人負擔。 |
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Instrument Chinese Name
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【ESCA003600】X射線光電子能譜儀
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【ESCA003600】X射線光電子能譜儀
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Instrument English Name
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X-ray Photoelectron Spectrometer
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Instrument Category
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Electron spectrometer
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Instrument Status
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暫停服務(Service Paused)
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Number of Reservations
(within a month)
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Number of Reservations(Internal):0
Number of Reservations(external):0
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Billing Trial Calculation
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